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제품 리스트
모형: TF-2006
상표: Tianfu
포장: 구매자의 요청으로
생산력: 100Ton
수송: Ocean,Land,Air,DHL，TNT
원산지: 중국
지원에 대한 지원: 50Ton
인증 : ISO
포트: Shanghai port,Qingdao port
지불 유형: L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union
인 코텀: FOB,CFR,CIF,EXW,FCA,CPT,CIP
P- 아세 톡시 스티렌은 포토 레지스트 (포토 레지스트)의 주요 성분으로서 폴리 파라 히드 록시 스티렌을 합성하는데 사용될 수있다. 화학적으로 증폭 된 포토 레지스트의 폴리 -p- 히드 록시 스티렌 계열은 현재 세계에서 포토 레지스트 제품의 주류이며, 포토 에칭 집적 회로 및 제조 칩을 처리하는 핵심 기술 중 하나입니다. 사진 식각 기술은 0.18μm 선폭을 만들기 위해 0.3-0.28μm 선폭의 생산에서 깊은 자외선 (파장 248nm)까지 개발되었으며 초경 자외선 (파장 193nm)을 사용하여 11 ㎛ 미세 회로. 248nm 포토 레지스트는 화학 증폭 기술을 사용하여 광산 발생기를 빛 아래에서 방출하기 위해 필름 형성 수지, 아릴 요오드 늄염 또는 술포 늄염으로 폴리 -p- 히드 록시 스티렌 유도체를 사용합니다. 산은 산 (즉, 산이 중합체의 가교 결합을 촉매합니다 네거티브 겔화) 또는 탈 보호 반응 (양성 젤라틴 화)에 의해 감광성을 크게 증가시킨다.
|
Metal Contents
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AI | ＜10ppb | ＜1 |
| Ca | ＜10ppb | 4.5 | |
| Mg | ＜10ppb | ＜1 | |
| Cu | ＜10ppb | ＜1 | |
| Fe | ＜10ppb | ＜1 | |
| Na | ＜10ppb | 9.2 | |
| Ni | ＜10ppb | ＜1 | |
| Zn | ＜10ppb | ＜1 | |
| K | ＜10ppb | ＜1 | |
| Mn | ＜10ppb | ＜1 | |
| Cr | ＜10ppb | ＜1 | |
| SN | ＜10ppb | 0.2 | |
| AS | ＜01ppb | 0.3 |
| Test Items | Specification | Results |
| Appearance | Colorless Liquid | Colorless Liquid |
| Purity (GC) | ≥99.0% (area) | 99.22% (area) |
|
(w/w%) Water content by KF |
≤0.10% | 0.02% |
| Clarity (10%(w/w)Methanol Soivent) | Clear | Clear |
| Total Acid Number | ≤100(mgKOH/L) | 13.8(mgKOH/L) |
|
Polymerization inhibitor |
200ppm-300ppm | 256 |
제품 디렉토리 : 정밀 화학
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